Caracterización a la nanoescala de capas fotónicas antirreflectantes fabricadas mediante deposición física de vapor en ángulos oblicuos
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Pubblicato:
02-02-2021
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Come citare
Lacroix, B., Santos-izquierdo-bueno, A. J., García Roja, R., & Morales Sánchez, F. M. (2021). Caracterización a la nanoescala de capas fotónicas antirreflectantes fabricadas mediante deposición física de vapor en ángulos oblicuos. B-IMEYMAT, 3(1). Recuperato da https://revistas.uca.es/index.php/b-imeymat/article/view/7321